今(9/12)國際相關新聞的重點摘要如下：
1.南韓三星電子行動事業部總裁高東真（DJ Koh）周二表示，最新旗艦機Galaxy Note 8的預購量，已經超越前幾代Note系列平板手機。
他表示，Galaxy Note 8平板手機自8月23日在紐約亮相後，許多客戶與合作夥伴都表示市場的初期反應令人振奮，Note 8手機預購量約是Note 7的2.5倍。
Note 8手機本周五（9月15日）將於美國、南韓等國家正式開賣，與蘋果即將登場的新一代iPhone手機正面對決的意味濃厚。
2.法國工會計劃周二（12 日）發動大罷工抗議，反對總統馬克龍的勞工改革方案。然而，馬克宏上周五還暗示法國勞工根本是「懶惰」，並指「那些憤世嫉俗和激進人士阻礙國家改革」，引起起軒然大波。
法國全國各地今天預定舉行180場示威遊行和4千場罷工活動，抗議總統馬克宏（Emmanuel Macron）執意推行的勞工法改革。
而馬克宏本月8日在希臘訪問期間，還表示：「無論是對著那些懶惰、憤世嫉俗或激進的分子，我都不會退縮投降。」他又指：「法國不能作出改革，是因為國民反叛、抗拒和逃避。」此言一出引起國內左右派人士怒批，火上加油罷工的反抗情勢。
3.今天是美國911恐攻16周年，美國總統川普與第一夫人梅蘭妮亞赴五角大廈出席紀念會。川普致詞時指出，911的記憶永不會抹滅，美國也終將獲得勝利。
川普告訴包括911罹難者親屬代表的與會者，911改變了美國，美國將永遠記得那個恐怖黑暗的一天；911是美國自珍珠港以來最嚴重的襲擊事件，更糟的是對平民的襲擊。但這最黑暗的一刻，也讓人們看到邪惡深處，縮短美國人民的距離。
川普指出911後，有500多萬青年男女加入美國軍隊，捍衛美國，對抗野蠻惡魔的力量。他同時強調，這些敵人非常「可怕」，「是我們前所未見的」；但美軍將確保這些敵人再也沒有一個安全的避風港，可以對美國發動攻擊，在地球的任何地方也無庇護所。
911以來，近7000名美國軍人在全球各地與恐怖分子戰爭中犧牲。川普表示，美國的價值觀將永遠持續，人民也將茁壯成長。
這是川普首次以總統身份參加美國911紀念活動。出身紐約的川普與911恐襲有直接牽連，他常公開稱讚紐約市對911的應對和反應，並曾表示自己在911恐襲失去了「數百名朋友」，但他從未透露遇難名單中那些人是他熟識的友人。
4.北韓不甩制裁頻頻核試，在國際早是惡名昭彰，繼墨西哥將北韓大使金亨吉驅逐出境，秘魯外交部也於當地時間11日宣布，將北韓大使列入不受歡迎名單，限期5天內離境。
根據《路透社》（Reuters）報導，秘魯外交部在當地周一指出，為抗議北韓日前不顧國際呼籲進行第六次核試，駐秘魯大使金學哲（Kim Hak-Chol，音譯）須在5日內離開秘魯。
秘魯外交部聲明中強調，秘魯會嚴格遵守聯合國安理會決議，盡所有外交努力，協助讓朝鮮半島達成無核化目標。
5.《日刊工業新聞》（Nikkan Kogyo）周二報導，消息人士透露東芝公司準備約以2兆日圓（183億美元），將旗下的記憶體晶片事業賣給以威騰電子（Western Digital Corp）為首的競標團隊。
報導指出，東芝和威騰的協商已進入最後階段，將敲定威騰未來對該晶片事業的持股。東芝計畫在周三做出正式決定，並預計在9月20日的董事會後簽署協議。
東芝發言人對此回應表示，公司尚未就出售東芝記憶體公司（Toshiba Memory）做出任何決定，亦不會評論競購過程相關細節。
此前路透社援引消息人士報導，東芝將於周三召開董事會考慮三個競標團隊的提案，一名直接知情人士透露，東芝和威騰的協商仍在進行中。
除了以威騰為首的團隊之外，東芝先前表示亦將考慮由台灣鴻海(2317)集團，以及貝恩資本聯手SK海力士等另外兩個財團提出的收購提議。
6.國際化工大廠德商巴斯夫今年以全面創新管理、環境和社會報告及實質性評估等領域的成績，再度榮登道瓊全球可持續發展指數（DJSI World）排行榜。
巴斯夫表示，道瓊全球可持續發展指數是最知名的可持續發展指數之一，代表標準普爾全球市場指數（S&P Global Broad Market IndexSM）的2500家大型企業中可持續發展業績名列前10%的公司。
巴斯夫集團全球員工約114,000人，產品涵蓋化學品、特性產品、功能性材料與解決方案、農業解決方案、石油與天然氣五大業務領域。2016年巴斯夫全球銷售額約580億歐元 。
巴斯夫已連續17年入選道瓊全球可持續發展指數排行榜。入圍公司必須證明其在可持續發展方面的持續改進，並接受可持續資產管理集團(RobecoSAM)分析師的評估。
此外，巴斯夫還入選富時社會責任指數系列(FTSE4Good Index Series)。入選企業必須達到嚴格的環境、社會和企業治理(ESG)標準，並在指數系列的定期評估中保持相同水準和不斷提高。巴斯夫的ESG評分在所有入選的化工企業中名列前茅。
7.設備大廠美商科磊（KLA-Tencor）12日在台灣國際半導體展（SEMICON Taiwan）開幕前，宣布推出針對7奈米以下邏輯及記憶體製程的5款顯影成型控制系統，協助半導體廠在以多重曝光（multi-patterning）及極紫外光（EUV）等微影技術生產時所需的嚴格製程公差。
行銷長暨資深副總經理Oreste Donzella指出，微影曝光技術現在正面臨重大的挑戰，因為多重曝光的成本太高且生產時間拉長，雖然業界對於進入次世代EUV影影技術已有共識，但製程推進至7奈米以下時，同一片晶圓同時採用多重曝光及EUV的過渡期，以及未來進入EUV世代後，需要更精密的顯影控制，這就是科磊重要的機會。
Oreste Donzella表示，製程進入7奈米及5奈米之後，半導體廠在生產中找到疊對（overlay）誤差、線寬尺寸不均、熱點（hotspot）的發生原因會愈來愈困難。
為了解決這些問題，除了調整曝光機參數及校正，不同光罩及微影製程步驟變化也會影響顯影成型，科磊的控制系統可以提供全晶圓廠範圍的檢測資料，協助客戶針對製程問題迅速定位及管理，降低由每個片晶圓、光罩、製程步驟所導致的顯影成型誤差。
科磊此次推出的5款控制系統，一是ATL疊對量測系統，採用獨特的可雷射技術，具有1奈米分辨率，自動維持穩定的高精度疊對誤差測量，支持快速的技術開發提升，並在生產過程中進行精確的晶圓處置。
二是SpectraFilm F1薄膜量測系統，採用全新光學技術，對單層及多層薄膜厚度和均勻性進行高精度測量，可用來監測量產中的沉積製程並提供能隙（bandgap）資料，可提早預測元件的電性能。
三是Teron 640e光罩檢測系統採用增強的光學、檢測器及演算法，可以補捉關鍵的顯影和微粒缺陷並實現高速檢測，協助推動EUV和光學顯影光罩的開發及鑑定。
四是LMS IPR07光罩疊對量測系統採用全新的操作模式，能在很短的周期精確量測元件內的光罩顯影放置誤差，為光罩電子束直寫機校正提供全面光罩鑑定，減少光罩相關疊對誤差發生。
五是5D Analyzer X1資料分析系統提供了一個可擴展的開放式架構，可接收來自不同量測和製程工具的資料，實現對全晶圓廠範環內製程變化的分析、表徵描述、及時間控制等。
